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Spin-off NexWafe gewinnt Fraunhofer Gründerpreis 2020
Die NexWafe GmbH gewinnt den mit 5.000 Euro dotierten Fraunhofer Gründerpreis 2020. Das Start-up überzeugte die hochkarätig besetzte Jury von Fraunhofer Venture und dem High-Tech-Gründerfonds mit einem revolutionären Neuansatz für die Photovoltaik-Industrie.
Mit einem neuartigen Verfahren zur preiswerten und ressourcenschonenden Herstellung von Silizium-Wafern für Photovoltaik-Anlagen gewinnt die Fraunhofer-Ausgründung NexWafe GmbH in Freiburg den renommierten Fraunhofer-Gründerpreis 2020. Mit dem von NexWafe entwickelten EpiWafer-Verfahren wird eine kristalline Siliziumschicht direkt auf einen Saatwafer abgeschieden und dann abgelöst. Mit dieser neuartigen Technologie kann jede gewünschte Waferdicke zu einem Bruchteil des bisher notwendigen Energie-, Material- und Kapitalaufwands hergestellt werden.
Disruptives Potenzial für regenerative Energieerzeugung
Die Herstellungskosten für Photovoltaik-Wafer werden durch das neuartige Verfahren im Vergleich zum herkömmlichen Kristallwachstum um 50% und die in der Herstellung erzeugten CO2-Emissionen um 70% reduziert. Die signifikanten Kostenvorteile, die durch die NexWafe-Technologie erzielt werden können, schaffen vor allem für die technologienahen Unternehmen am Standort Deutschland eine neue Zukunftsperspektive in der Produktion von Solarzellen.
Die Nexwafe GmbH beliefert Solarzellenhersteller mit hochwertigen monokristallinen Siliziumwafern, die vollständig kompatibel mit den Standardprozessen der Zell- und Modulherstellung sind. Das Unternehmen nimmt aktuell eine 5MW-Pilotlinie in Freiburg in Betrieb und plant, im ersten Halbjahr 2021 Kunden zur Qualifizierung zu beliefern.
NexWafe wurde 2015 von Stefan Reber, Abteilungsleiter für Kristalline Silicium-Materialien am Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE, und Frank Siebke, einem erfahrenen Experten und Unternehmer im Solarenergie-Sektor gegründet. Seit September 2020 ergänzt Davor Sutija, renommierter Mehrfach-Gründer im internationalen Energie- und Technologie-Sektor, das Management-Team von NexWafe als CEO.
Die kostenintensive Frühphase der nächsten Generation der Wafer-Produktion wurde vom Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE und Fraunhofer als Seed-Investoren finanziert. Weitere Beteiligungen aus Deutschland, der Schweiz und Saudi-Arabien sicherten die Weiterentwicklung und den Wachstumskurs des Unternehmens.
Spitzentechnologie als Standortvorteil
In der Jury-Begründung würdigte Thomas Doppelberger, Leiter von Fraunhofer Venture, besonders, dass das NexWafe-Verfahren ein strukturelles Problem der Photovoltaik-Branche auf Basis von Fraunhofer-Technologie gelöst habe und einer ganzen Industrie neue Perspektiven eröffne: »Das Kerfless-Wafer-Verfahren von NexWafe hat das Potenzial, den Wettbewerb in der Photovoltaik-Industrie weltweit von niedrigen Herstellungskosten hin zu den innovativen Technologien zu verlagern. NexWafe zeigt, dass der Technologie-Vorsprung durch Forschung ein entscheidender Faktor für die Zukunft des Standorts Deutschland sein kann und ist damit Vorbild für Ausgründungen aus der Wissenschaft.«
Dr. Andreas Olmes, Principal beim High-Tech Gründerfonds, ergänzt: »Es ist großartig, dass die Erfolgsgeschichte von Fraunhofer mit der NexWafe weiter fortgeschrieben wird, und ich bin dankbar, dass wir als HTGF dies mit unterstützen können. Die NexWafe ist für mich ein hervorragendes Beispiel, wie German Deep Tech erfolgreich und nachhaltig aus der Forschung heraus kommerzialisiert werden kann.«